復(fu)合耐(nai)磨管微小(xiao)的(de)(de)差異導(dao)致不同(tong)的(de)(de)反(fan)應(ying)機理進而形成(cheng)不同(tong)物相產物,這在(zai)以(yi)往的(de)(de)科研工(gong)作(zuo)中經常被忽視。復(fu)合耐(nai)磨管三氧化二銦(yin)(yin)納米(mi)立(li)方(fang)塊的(de)(de)合成(cheng)及其自(zi)組裝膜以(yi)乙酰(xian)丙酮(tong)銦(yin)(yin)為前驅體(ti),在(zai)不同(tong)的(de)(de)有(you)機溶劑(ji)中進行溶劑(ji)熱反(fan)應(ying),得(de)到表(biao)面平滑,棱角規則清(qing)晰的(de)(de)復(fu)合耐(nai)磨管納米(mi)立(li)方(fang)塊。所合成(cheng)的(de)(de)六方(fang)相氧化銦(yin)(yin)納米(mi)晶與立(li)方(fang)相氧化銦(yin)(yin)以(yi)及Degussa P25相比,有(you)著更(geng)強的(de)(de)催化降解苯(ben)酚的(de)(de)能力。

　　采用(yong)層(ceng)層(ceng)自(zi)(zi)組(zu)(zu)(zu)裝(zhuang)技術,將復(fu)合(he)耐(nai)磨(mo)(mo)管氧化銦無機納米顆粒(li)自(zi)(zi)組(zu)(zu)(zu)裝(zhuang)成(cheng)(cheng)膜(mo)(mo)(mo)。原子力顯微鏡（AFM）表(biao)(biao)征(zheng)表(biao)(biao)明薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)表(biao)(biao)面顆粒(li)分布緊(jin)密均勻,單層(ceng)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)厚度(du)為(wei)6.39-15.15nm。我們(men)利(li)用(yong)紫外(wai)可(ke)見(jian)吸(xi)(xi)收光(guang)譜記錄了(le)多(duo)(duo)層(ceng)膜(mo)(mo)(mo)制備(bei)過程(cheng),即監測了(le)復(fu)合(he)耐(nai)磨(mo)(mo)管每次(ci)(ci)沉積(ji)循環(huan)后所形成(cheng)(cheng)的(de)(de)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)吸(xi)(xi)收光(guang)譜。隨著復(fu)合(he)耐(nai)磨(mo)(mo)管沉積(ji)循環(huan)次(ci)(ci)數(shu)的(de)(de)增(zeng)(zeng)加,薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)吸(xi)(xi)收峰(feng)的(de)(de)強度(du)近線性增(zeng)(zeng)強,這為(wei)多(duo)(duo)層(ceng)膜(mo)(mo)(mo)組(zu)(zu)(zu)裝(zhuang),厚度(du)逐(zhu)漸(jian)增(zeng)(zeng)長提供(gong)了(le)證(zheng)據。同時隨沉積(ji)循環(huan)次(ci)(ci)數(shu)增(zeng)(zeng)多(duo)(duo),膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)厚度(du)增(zeng)(zeng)加,其熒(ying)光(guang)發光(guang)強度(du)呈線性增(zeng)(zeng)強。

　　反(fan)應溶劑由乙醇(chun)改變為(wei)n-丁醇(chun)、n-辛醇(chun)、苯,得到(dao)的(de)納(na)米(mi)立方塊(kuai)邊長從(cong)(cong)約21nm減(jian)小(xiao)到(dao)約12nm、8nm和(he)(he)6nm,厚度從(cong)(cong)8nm減(jian)小(xiao)到(dao)約6nm,5nm和(he)(he)3nm。在(zai)(zai)不(bu)(bu)同溶劑中得到(dao)的(de)不(bu)(bu)同尺寸的(de)氧(yang)化(hua)銦納(na)米(mi)晶均在(zai)(zai)可(ke)見光(guang)區(qu)有四個(ge)強的(de)發(fa)(fa)射(she)峰,其中心分別(bie)位于451nm（藍色(se)）、548、568nm（黃色(se)）和(he)(he)616nm（橙色(se)）。這(zhe)說明樣(yang)品中含有豐富的(de)氧(yang)空(kong)位,產生了不(bu)(bu)同的(de)能(neng)級,這(zhe)樣(yang)在(zai)(zai)光(guang)激(ji)發(fa)(fa)的(de)過(guo)程中使(shi)紫(zi)外(wai)帶邊發(fa)(fa)射(she)（NBE）與深能(neng)級發(fa)(fa)射(she)（DL）的(de)比(bi)值(zhi)非常小(xiao),因(yin)此導致(zhi)光(guang)致(zhi)發(fa)(fa)光(guang)（PL）光(guang)譜上出現四個(ge)可(ke)見光(guang)發(fa)(fa)射(she)峰。